今后，廢水處理技能水平將不斷進(jìn)步，在出水水質(zhì)、出資成本、運(yùn)轉(zhuǎn)辦理、適用性等方面將有更多優(yōu)勢，在污水再生回用方面具有更多的運(yùn)用空間。 　半導(dǎo)體的出產(chǎn)需求經(jīng)過8個(gè)首要工序。超純水首要用于半導(dǎo)體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

　超純水是一種用于半導(dǎo)體制作過程中的洗滌劑。那么，在半導(dǎo)體出產(chǎn)中運(yùn)用超純水會有什么影響呢?在用納米超精密工藝處理半導(dǎo)體時(shí)，假如在各種工藝前后留下一個(gè)小顆粒，則會導(dǎo)致差錯。因而，在各種工藝前后用超純水清洗晶圓可以保證清潔度并進(jìn)步半導(dǎo)體出產(chǎn)率(輸出)。

　半導(dǎo)體職業(yè)是一個(gè)高能耗的職業(yè)。在半導(dǎo)體產(chǎn)品制作過程中，由于出產(chǎn)設(shè)備的精密性和出產(chǎn)工藝的復(fù)雜性，對其配套設(shè)施提出了很高的要求，尤其對超純水體系的運(yùn)用要求更高。 　　在半導(dǎo)體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進(jìn)行化學(xué)處理，而化學(xué)處理又與超純水有關(guān)水中的雜質(zhì)會進(jìn)入硅片，如帶入過量的雜質(zhì)，就會導(dǎo)致器件功能下降、影響產(chǎn)品功能。因而，制備高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規(guī)模集成電路的重要前提技能。