同時(shí)利用透射電鏡、掃描電鏡以及偏光顯微鏡輔以溶脹平衡實(shí)驗(yàn)對(duì)MMT在CIIR基體材料內(nèi)的分散以及作用機(jī)理進(jìn)行觀察和分析，探討了OMMT作為阻尼劑的阻尼機(jī)理，研究了不同的分散情況對(duì)CIIR/OMMT復(fù)合材料力學(xué)性能、阻尼性能的影響，在進(jìn)行預(yù)清洗過程時(shí)，蝕刻速率變化不大，說明表面沒有氧化硅掩蔽層或有機(jī)殘留物層，透射電鏡調(diào)查也證實(shí)了這一發(fā)現(xiàn)，通過透射電鏡高分辨元素成像，可以看出納米顆粒的元素組成確實(shí)包括Cd元素和S元素。

術(shù)后光鏡檢查很難與少支膠質(zhì)細(xì)胞瘤區(qū)別，確切的組織學(xué)診斷依賴于透射電鏡檢查或免疫組織化學(xué)顯示特異性神經(jīng)細(xì)胞抗原檢查，2002年，周邦新結(jié)合自己多年的研究經(jīng)歷，聯(lián)合多位老師建議學(xué)校整合學(xué)校的實(shí)驗(yàn)檢測(cè)設(shè)備資源，該研究綜合透射電鏡細(xì)胞生物學(xué)分析，蛋白質(zhì)組學(xué)，代謝組學(xué)和生化分析，在模式植物擬南芥系統(tǒng)解析了自噬降解對(duì)蛋白質(zhì)降解及其它細(xì)胞內(nèi)蛋白運(yùn)輸和降解的調(diào)控，并對(duì)發(fā)現(xiàn)的新現(xiàn)象進(jìn)行了深入的探討，為植物細(xì)胞自噬降解調(diào)控的進(jìn)一步深入機(jī)制研究提供了前提。

染色方法有單染，包括鉛鹽單染和鈾鹽單染；雙染色，醋酸鈾染色和檸檬酸鉛染色，雙染色呈現(xiàn)結(jié)果更全面，我們一般采用的雙染法進(jìn)行染色，常用染色劑：醋酸鈾，有微弱的放射性，主要染核酸、核蛋白、細(xì)胞核、結(jié)締組織，檸檬酸鉛，主要染膜結(jié)構(gòu)、脂類、糖原等，易與CO2反應(yīng)成沉淀，染色中應(yīng)采取措施避免，電鏡照片主要解析粒徑分布、單晶/多晶、晶面結(jié)構(gòu)、元素和原子分散，其本質(zhì)是信號(hào)的空間分布，基本機(jī)理與比例尺地圖是一致的。